厦门迈凯伦精瑞科仪有限公司 主营:匀胶机,烤胶机,紫外固化机,滴胶机,浸胶机(垂直提拉机)
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特种气体

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简单介绍

特种气体,是指在特定领域中应用的有特殊要求的纯气、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。特种气体门类繁多,通常可分为电子气体、标准气、环保气、医用气、焊接气、杀菌气等,广泛应用于电子、电力、石油化工、采矿、钢铁、有色金属冶炼、热力工程、生化、环境监测、医学研究及诊断和食品保鲜等领域。

产品描述

特种气体,是指在特定领域中应用的有特殊要求的纯气、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。特种气体门类繁多,通常可分为电子气体、标准气、环保气、医用气、焊接气、杀菌气等,广泛应用于电子、电力、石油化工、采矿、钢铁、有色金属冶炼、热力工程、生化、环境监测、医学研究及诊断和食品保鲜等领域。

我司联合全球多家著名特种气体制造商,提供60多种高纯气体,并可根据客户要求的比例和纯度进行混合气体定制。各种产品纯度高、包装安全性好,可满足各类实验、生产和检测的需求。

产品纯度分级

Grade
Purity
Total Impurities
7N
99.99999%
100 ppb
6N
99.9999%
1 ppm
5N5
99.9995%
5 ppm
5N
99.999%
10 ppm
4N5
99.995%
50 ppm
4N
99.99%
100 ppm
3N5
99.95%
500 ppm
3N
99.9%
1000 ppm

产品包装信息

产品包装

CYLINDER/CONTAINER DESIGNATION
NOMINAL WEIGHT
(LBS/kg)
WATER CAPACITY
(LITER)
DOT
DESIGNATION
O.D.
IN/mm
HEIGHT
IN/mm
HIGH PRESSURE STEEL CYLINDER
049
135/61.3
49
3AA2400
10/254
55/1397
044
113/51.4
44
3AA2015
9/229
52/1321
016
44/20
16
3AA2015
7/178
31/788
008
25/11.3
8
3AA2015
7/178
18/457
LB/7X
4/1.8
0.44
3AA1800
2/51
15/381
HIGH PRESSURE ALUMINUM CYLINDER
AL150
52/23.6
30
3AL2015
8/204
48/1219
AL80
33/15
16
3AL2015
7/178
39/991
AL30
19/8.6
6
3AL2015
7/178
21/533
AL6
20/0.9
1.5
3AL1800
3.2/81
12/305
AL4
1.5/0.68
0.9
3AL1800
3.2/81
9.4/239

产品列表

Chemical Vapour
英文名称
中文名称
分子式
CAS
TEOS/Tetraethylorthosilicate
四乙氧基硅烷
(C2H5O)4Si
78-10-4
TMP/Trimethylphosphite
三甲氧基磷
(CH3O)3P
121-45-9
TMB/Trimethylborate
三甲基硼酸酯
(CH3O)3B
121-43-7
TEB/Triethylborate
三乙氧基硼酸酯
(C2H5O)3B
150-46-9
TEPO/Triethylphosphate
三乙基磷酸酯
(C2H5O)3PO
78-40-0
TMPO/Trimethylphosphate
三甲基磷酸酯
(CH3O)3PO
512-56-1
TMCTS/1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane
1,3,5,7-四甲基环四硅氧烷
C4H16O4Si4
2370-88-9
TTMSB/Tris(Trimethylsiloxy)Boron
三(三甲基硅基)硼酸酯
C9H27BO3Si
4325-85-3
DCE/Trans 1,2-Dichloroethylene
反式 1,2-二氯乙烯
C2Cl2H2
156-60-5
TiCl4/Titanium Tetrachloride
四氯化钛
TiCl4
7550-45-0
TMAT/Tetrakis-dimethyl-amino titanium
四(二甲氨基)肽
C8H24N4Ti
3275-24-9
TCA/1,1,1-Trichloroethane
1,1,1-三氯乙烷
C2H3Cl3
71-55-6
BBR3/Boron Tirbromide
三溴化硼
BBR3
10294-33-4
phosphorus tribromide
三溴化磷
PBr3
7789-60-8
Tetrachloromethane
四氯甲烷
CCl
56-23-5
DCM/Dichloromethane
二氯甲烷
CCl2H2
75-09-2
 
  
Organometallic
Aluminum
TMAl /Trimethylaluminium
三甲基铝
75-24-1
TEAl /Triethylaluminum
三乙基铝
97-93-8
Antimony
TMSb /Trimethylantimony
三甲基锑
594-10-5
TESb /Triethylantimony
三乙基锑
N/A
Arsenic
TBAs /Tertiarybutylarsine
叔丁基胂
4262-43-5
TMAs /Trimethylarsine
三甲基胂
593-88-4
Boron
TEB /Triethylboron
三乙基硼
97-94-9
Carbon
CBr4 /Carbontetrabromide
四溴化碳
558-13-4
Chlorine
TBCl /Tertiarybutylchlorine
叔丁基氯
507-20-0
Gallium
TMGa /Trimethylgallium
三甲基镓
1445-79-0
TEGa /Triethylgallium
三乙基镓
1115-99-7
Indium
Tmin /Trimethylindium
三甲基铟
3385-78-2
Iron
CP2Fe /Bis(cyclopentadienyl)iron
二茂铁
102-54-5
Magnesium
CP2Mg /Bis(cyclopentadienyl)magnesium
二茂镁
1284-72-6
Manganese
(MCp)2Mn /Bis(monomethylcyclopentadienyl)manganese
双(单甲基环五二烯基)镁
N/A
Nitrogen
UDMHy /1,1-Dimethylhydrazine
1,1-二甲基肼
57-14-7
TBHy /Tertiarybutylhydrazine
叔丁基肼
N/A
Phosphorous
TBP /Tertiarybutylphosphine
叔丁基磷
2501-94-2
Silicon
DTBSi /Ditertiarybutylsilane
二叔丁基硅烷
30736-07-3
Zinc
DMZn /dimethylzinc
二甲基锌
544-97-8
DEZn /Diethylzinc
二乙基锌
557-20-0
 
Etchant
英文名称
中文名称
分子式
CAS
Acetic Acid
乙酸
CH3COOH
55896-93-0
Ammonium Fluoride
氟化铵
NH4F
12125-01-8
Ammonium Hydroxide
氢氧化铵
NH4OH
1336-21-6
BOE(Buffered Oxide Etchants)
二氧化矽蚀刻剂
NH4F,HF
N/A
Chrome Etch
铬蚀刻剂
KMnO4,Na3PO4
N/A
Chromium Trioxide/HF/Water
三氧化铬(氢氟酸/水)
CrO3,HF,H2O
1333-82-0
Chromium Trioxide/Phos/Water
三氧化铬(磷酸/水)
CrO3,H3PO4,H2O
1333-82-0
Glass Etch
玻璃蚀刻剂
NH4F,CH3COOH
N/A
Hydrochloric Acid
氯化氢
HCL
7647-01-0
Hydrofluoric Acid
氟化氢
HF
7664-39-3
Hydrogen Peroxide
过氧化氢
H2O2
7722-84-1
Isopropyl Alcohol
异丙醇
CH3CHOHCH3
67-63-0
MAE(Mixed Acid Etchants)
混酸蚀刻剂
HF,HNO3,CH3COOH
N/A
M-Etch
混酸蚀刻剂
HF,HNO3,CH3COOH
N/A
Methyl Alcohol
甲醇(木精)
CH3OH
67-56-1
Methyl Ethyl Ketone
乙基甲基甲酮
CH3COCH2CH3
78-93-3
n-Butyl Acetate
乙酸正丁酯
n-C4H9OC(O)CH3
123-86-4
Nitric Acid
硝酸
HNO3
7697-37-2
PAE(Phosphoric Acid Etchants)
磷酸蚀刻剂
H3PO4,HNO3,CH3COOH
N/A
Phosphoric Acid
磷酸
H3PO4
7664-38-2
Poly Etch
混酸蚀刻剂
HF,HNO3,CH3COOH
N/A
Paotassium Hydroxide(Solution,Pellets)
氢氧化钾
KOH
1310-58-3
Pre-Evap Etch
氟化铵
NH4F,(NH4)3PO4
12125-01-8
Sodium Hydroxide(Solution,Pettels)
氢氧化钠
NaOH
1310-73-2
Spinetch AT,BT,D,E,F
新式蚀刻剂AT,BT,D,E,F
Propritary
N/A
Sulfuric Acid
硫酸
H2SO4
7664-93-9
Superwet BOE(Surfactanated Buffered Oxide Etchants)
表面刻蚀氧化试剂
NH4F,HF,surfactant
N/A
Superwet Water/HF(Surfactanated Water/HF)
稀释氢氟酸水溶液
HF,H2O,surfactant
7664-39-3
Water/HF
氢氟酸水溶液
HF,H2O
7664-39-3
WRS 200
 
Proprietary
N/A
Xylene
二甲苯
C6H4(CH3)2
1330-20-7
 
Electronic Gases
英文名称
中文名称
分子式
CAS
Argon
氩气
Ar
7440-37-1
Arsine
砷烷
AsH3
7784-42-1
Arsine Mix
砷烷混合气
AsH3 Mix
N/A
Boron Trichloride
三氯化硼
BCl3
10294-34-5
Boron Trifluoride
三氟化硼
BF3
7637-07-2
Diboron hexahydride Mix
硼烷混合气
B2H6 Mix
N/A
Carbon Dioxide
二氧化碳
CO2
124-38-9
Chlorine
氯气
Cl2
7782-50-5
Carbon tetrafluoride
四氟化碳
CF4
75-73-0
Trifluoromethane
三氟甲烷
CHF3
75-46-7
Hexafluroethane
六氟乙烷
C2F6
76-16-4
Octafluorocyclobutane
八氟环丁烷
C4F8
115-25-3
(z)-2-Butene
顺-2丁烯
C4H8
590-18-1
trans-2-Butene
反-2丁烯
C4H8
624-64-6
Chlorine trifluoride
三氟化氯
ClF3
7990-91-2
Deuterium
氘气
D2
7782-39-0
Germane
锗烷
GeH4
7782-65-2
Germane Mix
锗烷混合气
GeH4 Mix
N/A
Helium
氦气
He
7440-59-7
Hydrogen
氢气
H2
1333-74-0
Hydrogen bromide
溴化氢
HBr
10035-10-6
Hydrochloric acid
氯化氢
HCl
7647-01-0
Ammonia
氨气
NH3
7664-41-7
Nitrogen
氮气
N2
7727-37-9
Nitrous oxide
笑气
N2O
10024-97-2
Nitrogen trifluoride
三氟化氮
NF3
7783-54-2
Oxygen
氧气
O2
7782-44-7
Phosphine
磷烷
PH3
7803-51-2
Phosphine Mix
磷烷混合气
PH3 Mix
N/A
Silane
硅烷
SiH4
7803-62-5
Silane Mix
硅烷混合气
SiH4 Mix
N/A
Silicon tetrachloride
四氯化硅
SiCl4
10026-04-7
Silicon tetrafluoride
四氟化硅
SiF4
7783-61-1
Trichlorosilane
三氯硅烷
SiCL3H
10025-78-2
Dichlorosilane
二氯硅烷
SiH2Cl2
4109-96-0
Disilane
乙硅烷
Si2H6
1590-87-0
Disilane Mix
乙硅烷混合气
Si2H6 Mix
N/A
Sulfur hexafluoride
六氟化硫
SF6
2551-62-4
Tungsten hexafluoride
六氟化钨
WF6
7783-82-6
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